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行星球磨机-真空手套箱-高温电阻炉
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PECVD系统由管式炉，石英真空室、真空系统、供气系统、射频电源系统等组成。
PECVD系统主要应用于金属薄膜，陶瓷薄膜等，复合薄膜，石墨烯等生长。
PECVD系统增加功能容易，可扩展等离子清洗刻蚀等功能，PECVD系统薄膜沉积速率高、均匀性好、一致性和稳定性高等优点。
PECVD系统主要特点：
| RF射频电源主要技术参数 | 功率输出范围 | 0-500W |
| 最大反射功率 | 200W | |
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工作频率 |
射频：13.56MHZ±0.005% | |
| 功率稳定度 | +/-0.1% | |
| 谐波分量 | ≤-50dbc | |
| 射频区域宽度 | 0-600mm 可调 | |
| 匹配方式 | 自动 | |
| 冷却方式 | 风冷 | |
| 噪声 | <50dB | |
| 射频接口 | 50Ω N-type | |
| 输入电源 | 208-240V 50/60HZ |
| 质量流量计 |
量程和气体 |
5、10、20、30、50、100、200、300、500SCCM、1、2、3、5、10SLM （你可以任意选择以上量程和所通气体的类型） | |
| 耐压 | 3MP | ||
| 流量控制精度 | ±1.0%F.S | ||
| 最大工作（使用）压力 |
0.3MPa |
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| 线性 | ±0.5%F.S. | ||
| 重复精度 | ±0.2% F.S | ||
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路数 |
1 、2、3、4、5、6、7、8 路（可任意选择几路） | ||
| 接头类型 | 双卡套不锈钢接头 | ||
| 系统工作压力范围 | 0.1~0.5 MPa | ||
| 工作温度 | 5-45℃ | ||
| 压力真空表 | -0.1~0.15MPa 0.01MPa/格 | ||
| 静态混气室 | Dia50 X 400MM | ||
| 接口 | Dia6 / 1/4” | ||
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